专利状态
扫描系统
专利申请进度
申请
2012-07-30
申请公布
2014-02-12
授权
2016-05-18
预估到期
2032-07-30
专利基础信息
申请号 申请日
授权公布号 授权公告日
分类号
分类
申请人名称 上海中晶科技有限公司
申请人地址
专利法律状态
  • 2016-05-18
    授权
    状态信息
    授权
  • 2014-03-12
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):H04N 1/04申请日:20120730
  • 2014-02-12
    公布
    状态信息
    公开
摘要
本发明涉及一种扫描系统,包含一成像表面、一第一光学模块、一影像传感器以及一第二光学模块。第一光学模块用以会聚反射或透射自一对象的一第一光线,并将第一光线投射至成像表面以形成一光学影像,其中第一光学模块包含多个并排配置的第一透镜,且第一透镜的光轴彼此平行。第二光学模块设置于成像表面以及影像传感器之间,用以会聚成像表面上之光学影像的一第二光线至影像传感器,以形成一数字影像,其中第二光学模块包含同轴配置的多个第二透镜。由于上述扫描系统包含单镜头光学系统,因此,可提升扫描系统的设计弹性。

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