北京新氧科技有限公司_埋点曝光处理方法、装置及设备专利信息-牌子123

专利状态

埋点曝光处理方法、装置及设备

专利申请进度

申请

2020-03-03

申请公布

2020-06-26

授权

2024-03-01

预估到期

2040-03-03

专利基础信息

专利法律状态

摘要

本公开是关于一种埋点曝光处理方法、装置及设备。该埋点曝光处理方法包括：获取可回收控件在屏幕内所有可见的第一子控件的索引位置；仅在所述第一子控件为在屏幕内首次可见时，将该第一子控件的索引位置作为埋点数据上报给服务器。本公开提供的方案，能提高埋点分析准确性。