专利状态
一种光收集器装置
专利申请进度
申请
2022-11-09
授权
2023-01-17
预估到期
2032-11-09
专利基础信息
申请号 申请日
授权公布号 授权公告日
分类号
分类
申请人名称 浙江大立科技股份有限公司
申请人地址
专利法律状态
  • 2023-01-17
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型涉及一种光收集器装置,属于激光收集技术领域,解决了现有技术中通过普通金属面接收激光易导致金属面被激光烧蚀、金属颗粒溅射至烧蚀点周围区域而使得放置在周围的光学器件遭受金属颗粒污染的问题。本实用新型包括基座、光吸收片、隔圈和窗口片;所述光吸收片、隔圈和窗口片形成一个中空的空腔。本实用新型实现了光吸收片在长时间激光照射下产生的飞屑、微粒污染物留存在空腔中,避免放置在光收集器装置周围的其他光学器件遭受污染。

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