专利状态
一种印章底盖结构及印章
专利申请进度
申请
2017-12-29
授权
2018-08-14
预估到期
2027-12-29
专利基础信息
申请号 申请日
授权公布号 授权公告日
分类号
分类
申请人名称 卓达印章器材(厦门)有限公司
申请人地址
专利法律状态
  • 2018-08-14
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型提供一种印章底盖结构及印章,印章底盖结构包括有底座和侧壁;侧壁设置于底座的侧边;底座上还设有固定架,固定架上设有卡槽;底座通过卡槽和印章转轴上的轴套卡接;通过采用以上技术方案,可以有效防止印泥弄脏其他物品,并可防止印泥挥发,同时可以防止脏物污染印泥、携带方便、收缩方便;本实用新型提供的方案,结构简单、实用,有利于印章盖章操作,效率较高。

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