专利状态
匀光装置、投影仪光机以及投影仪
专利申请进度
申请
2021-08-16
申请公布
2021-11-12
授权
2023-12-08
预估到期
2041-08-16
专利基础信息
申请号 申请日
授权公布号 授权公告日
分类号
分类
申请人名称 深圳市火乐科技发展有限公司
申请人地址
专利法律状态
  • 2023-12-08
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-11-30
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):G03B21/14;申请日:20210816
  • 2021-11-12
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本公开涉及一种匀光装置、投影仪光机以及投影仪,该匀光装置包括用于发射光束的光源;沿光束传播方向,设置有供光束穿设的第一匀光组件、第二匀光组件以及至少一个扩散片组件;第一匀光组件用于将其入射端处的光束转化为多个具有各自光轴的光束并从其出射端射出;第二匀光组件用于将其入射端处的光束进行多次反射后并从其出射端射出;扩散片组件包括扩散片和驱动部,扩散片用于供光束穿设,驱动部用于驱动扩散片在垂直于光束的方向移动;和/或,扩散片组件包括用于供光束穿设的扩散片和折射件,折射件设置在扩散片的入光侧,以用于将光束折射到扩散片的不同位置。该匀光装置能够有效地对光束进行匀化、减少色斑。

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